半导体行业超纯水质量会有哪些要求 工业用水标准规范

半导体行业是生产各种电子器件的高科技行业。对清洁环境的严格要求。半导体生产相关工艺对杂质极其敏感，任何微量杂质都可能影响产品的性能和品质。纯水在稀释化学品、冲洗器皿、实验机械研磨等都会应用到。所用的超纯水需要达到的水质标准为：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准。

半导体行业对超纯水的要求非常严格。一般来说会有以下要求：

低总有机碳(TOC)值。半导体工艺中有机污染物会对产品的品质和性能造成影响，所以在半导体工厂内使用的所有供水系统产水的TOC值一般要控制在10微克/L以下。

超低离子载子浓度。离子载子(含H+，OH-)会影响半导体材料的表面电性能，所以超纯水的H+和OH-离子浓度都要控制在极低水平，一般在1nm/升以下。

超低微粒子含量。微小颗粒物质如粉尘、微细粒子等会对半导体产品造成物理损害，所以超纯水中微小颗粒的浓度要控制在极低水平，一般要求低于<0.1μm/L。高效超细过滤可以除去这些颗粒。

适当的带电电导率。超纯水的电导率要在0.055~0.2μS/cm范围内，不能太高也不能太低。适中带电电导率有利于减少静电问题和保持水相对稳定。

合适的pH值。 pH值对于抑制水中的金属离子溶出有关，为了减少金属杂质， pH值通常控制在5.8到6.3范围内。

除了上述几点外，超纯水还通常需要低氯、低铜、低钠等金属离子含量，以达到足够的纯净度。除此之外，温度、硬度等水质指标也有一定要求，以保证工艺和设备的正常运行。综上，半导体纯水产生需要使用更高级和更严密的净化技术，以达到和控制各种参数，以提供极高纯度、稳定和一致性的供水。

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