半导体行业使用的超纯水主要目是为了提供一个高度清洁的环境,保证半导体器件的制造质量,有效去除各种可能存在的污染物。超纯水设备中的水必须具备极高的纯度和低导电率,只有极高纯度的超纯水,才能提供一个清洁到分子层面的环境,保证半导体元器件的密封性和可靠性。因此半导体行业对超纯水设备的要求非常高。
半导体行业用超纯水设备在系统上有以下优势:
去离子效率高:采用EDI技术,双极交换膜去离子效率高,可以提供高纯度超纯水,满足高电阻率的要求。
预处理完善:通常包括RO反渗透预处理和软水处理、净化等多道预处理,进一步提高超纯水质量。
过滤效果好:使用多道过滤,包括微滤和超滤,有效去除悬浮物和微生物。
监控系统健全:可以实时监测水质状况,如电导率、离子含量、PH值等,发现问题及时。
系统封闭:整体采取封闭技术设计,减少外界污染,并使用抗静电和防腐蚀材料。
净化效果稳定:产水在规定工作寿命内能始终保持稳定电导率和高纯度。
定期维护 convenien:主要是膜组件更换和化学清洗,系统设计合理易于维护。
备件易换:各个关键组件如过滤器、滤膜和树脂列车等都可以方便更换。
满足GMP要求:许多半导体超纯水设备已经通过了GMP认证,满足半导体工业的质量要求。
独立系统:整个系统相对独立,不受周围环境的很多影响,稳定性强。
总的来说,半导体超纯水设备具有完善的预处理系统、高效的去离子设施、可靠的监控与维护等优点。整体系统能有效满足半导体行业对高电阻率超纯水的严格要求。
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